25年09月25日安捷伦ICP-MS 7900山西芯片厂实现了对NMP有机溶剂的直接进样分析

合作伙伴：山西芯片工厂

仪器类型：电感耦合等离子体质谱仪

品牌：安捷伦

型号：ICP-MS 7900

2025年09月25日， 热烈祝贺山西芯片工厂成功引入我司安捷伦电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS 7900系统！该设备配置氩氧装置与专用有机进样系统，通过氩氧混合气技术，实现了对NMP有机溶剂的直接进样分析，可精准检测钾、钠、钙、镁、铁、镍、铜、锡、钴等关键微量元素。感谢客户对谱标科技在半导体材料痕量分析领域技术实力的高度认可，期待携手助力芯片制造的纯度管控迈向新高度！

完整验证了“芯片工厂使用安捷伦 ICP-MS 7900 系统，通过氩氧混合气技术实现对 NMP 有机溶剂直接进样分析”这一技术路线的可行性与行业现状，关键结论如下：

硬件配置

7900 可加装第五个质量流量控制器 (MFC)，用于向载气中精确引入氧气，形成氩氧混合气，防止高碳有机溶剂（如 NMP）在采样锥表面积碳，保证长周期稳定运行 。

半导体专用配置还包括铂锥、PFA 微流量雾化器、带屏蔽炬的 2.5 mm 石英中心管、低温 Scott 雾化室等耐腐蚀、高灵敏度组件，满足直接进样需求 。

直接进样与校准策略

行业实践表明，对 EL/SP 级 NMP 无需稀释或酸化，可直接通过标准加入法 (MSA) 进样，避免外来污染，检出限低至 ppt 级 。

氩氧混合气有效消除碳基多原子离子对 Mg、Al、P、Cr 等关键元素的质谱干扰，背景等效浓度 (BEC) 显著下降，满足 SEMI C33-0213 Grade-3 规格 。

检测指标与性能

一次进样可同时定量 K、Na、Ca、Mg、Fe、Ni、Cu、Sn、Co 等 54 种溶解态金属；在单颗粒 (sp) 模式下，还可同步表征 14 种元素的纳米颗粒 (20–200 nm) 浓度与粒径分布 。

对于 Fe、Cr、Ni 等高风险金属纳米颗粒，SP-NMP 级样品比 EL-NMP 的颗粒浓度降低 1–2 个数量级，为晶圆厂选择更高纯度化学品提供数据支撑 

行业落地情况

多家大型半导体 FAB 已将“7900 + 氩氧混合气 + 有机进样”方案纳入 QC 标准，用于 NMP、PGMEA、IPA 等制程溶剂的日常监控，替代传统的“稀释-消解-ICP-OES/MS”两步法，分析效率提升 50% 以上 。

综上，安捷伦 ICP-MS 7900 通过氩氧混合气技术与专用有机进样系统，确实可在芯片工厂实现对 NMP 等有机溶剂的直接、高灵敏、多元素（含关键微/纳米级金属）分析，已成为半导体超纯化学品质量控制的主流手段之一。