专业技术，电感耦合等离子体质谱仪ICPMS 8900 加装氩氧装置

电感耦合等离子体质谱仪ICPMS 8900 加装氩氧装置的作用

ICP-MS 8900 加装 氩-氧混合气装置（Ar-O₂ 反应气模块）的核心作用可以概括为“去污、增敏、抗干扰”：

消除碳沉积

有机溶剂或高碳样品在等离子体中裂解成碳微粒，会沉积在采样锥、截取锥及离子透镜表面，导致信号漂移、灵敏度下降。加入少量 O₂（通常 5–20 % v/v）可把碳瞬间氧化为 CO/CO₂ 气体带走，有效延长锥口寿命并保持长期稳定性。

打破多原子离子干扰

• 用 O₂ 作为反应气，可将诸如 ⁴⁰Ar¹²C⁺、⁴⁰Ar¹⁶O⁺ 等干扰离子转化为质量数更高的氧化物或氧簇，从而与待测离子 m/z 错开，提高 ⁵²Cr、⁵⁶Fe 等易受干扰元素的准确度。

• 对半导体级高纯试剂、超痕量金属分析尤其重要，可把背景从 ppt 级降到亚 ppt 级。

提升特定元素灵敏度

某些元素（如 S、P、Si）在纯氩模式下电离效率低；引入 O₂ 后形成 MO⁺ 或 MO₂⁺ 产物离子，避开低质量区密集背景，实现更高响应。

扩展样品类型

允许直接进样含有机相（甲醇、IPA、酮类）或高 TDS（总溶解固体）样品，无需额外稀释或消解；配合 8900 的高盐接口，可测 25 % TDS 的盐水或海水

软件与硬件一体化

8900 的八级杆反应系统（ORS⁴）内置三路质量流量控制器，可在方法中按时间程序自动切换 Ar、He、O₂，实现“无干扰-高灵敏”双模式同一次运行完成。

一句话总结

加装氩-氧装置后，8900 不仅不怕“有机、高盐、高碳”样品，还能把传统难测的 ⁵²Cr、⁵⁶Fe、³¹P、³²S 等元素的检出限再拉低一个数量级，是超痕量金属、半导体、高纯化学品及复杂环境样品的“标配”升级。