2025年04月03日, 河南某半导体材料行业客户成功采购我司电感耦合等离子体光谱仪安捷伦/Agilent 5110VDV ICP-OES仪器!从设备安装到参数调试全程专业护航,更为客户团队提供定制化操作培训。感恩客户对我司技术实力的信赖与认可!
在半导体材料行业中,安捷伦Agilent ICP-OES 5110仪器具有广泛的应用,以下是其在该行业的应用、技术规格以及相关标准的详细信息:
应用场景
半导体制造:Agilent ICP-OES 5110可用于监测清洗和蚀刻硅片过程中使用的化学品中的痕量污染物。这对于确保半导体制造过程中的纯度和质量至关重要,因为即使是微量的杂质也可能影响半导体器件的性能和可靠性。
晶圆加工:该仪器还可用于监测晶圆/IC制造过程中使用的化学品中的污染物。这有助于及时发现并控制可能影响半导体制造质量的杂质,从而提高产品的良品率。
金属污染评估:Agilent 5110 VDV ICP-OES能够评估硅片衬底及用于硅的相关层和涂层中的金属污染。这对于半导体材料的研发和生产过程中的质量控制具有重要意义,因为金属污染可能会影响半导体器件的电学性能。
纳米颗粒分析:该仪器还可以用于化学品以及晶圆加工和清洁浴槽中的金属纳米颗粒(NP)分析。这对于研究和控制纳米颗粒在半导体制造过程中的分布和影响具有重要作用。
Agilent ICP-OES 5110 技术规格
垂直双向观测(VDV):Agilent ICP-OES 5110采用垂直双向观测技术,能够实现更高的测量通量和分析效率。这种设计使得仪器在测量包括高基质和挥发性有机溶剂在内的复杂样品时具有更好的性能。
固态RF发生器系统:该仪器配备了稳定的固态RF发生器系统,可以提供稳定的等离子体,确保长期稳定的分析性能。这对于半导体材料分析中对高精度和高重复性的要求非常重要。
检测器冷却:检测器采用半导体制冷,温度可达-40℃,暗电流和背景噪声低。这种设计提高了检测器的灵敏度和稳定性,从而提高了分析结果的准确性和可靠性。
多重检量限(Multical)功能:仪器具有多重检量限功能,可以根据不同的元素含量范围选择不同的谱线,使仪器能够同时测定高低含量的元素,扩展了仪器的动态线性范围。
长期稳定性:Agilent ICP-OES 5110具有良好的长期稳定性,8小时内RSD≤1%,短期稳定性RSD≤0.5%。这种稳定性对于半导体材料的长期分析和质量控制至关重要。
行业标准
半导体材料分析标准:在半导体材料行业中,ICP-OES仪器通常需要符合相关的行业标准,如SEMI(国际半导体产业协会)标准。这些标准规定了半导体材料中杂质元素的检测限、准确度和精密度等要求。
检测限和灵敏度:对于半导体材料中的痕量元素分析,ICP-OES仪器需要具备低检测限和高灵敏度。Agilent ICP-OES 5110能够满足这些要求,检测限一般为几个ppb,可测量的浓度范围可高达几十ppm。
分析效率和速度:半导体制造过程中对分析效率和速度有较高要求。Agilent ICP-OES 5110的垂直双向观测技术和智能光谱组合(DSC)技术能够实现快速的样品分析,提高生产效率。
安捷伦Agilent ICP-OES 5110仪器凭借其技术规格和广泛的应用场景,在半导体材料行业中发挥着重要作用。它能够满足半导体制造过程中对高精度、高灵敏度和高效率的分析需求,为半导体材料的质量控制和研发提供了有力支持。
谱标作为精密分析仪器服务商,我们始终以"诚心、诚信、真诚"为服务准则,未来将持续通过技术创新与专业服务,助力客户在半导体材料检测领域实现更精准的科研突破。期待与更多伙伴携手,共同推进中国半导体产业的高质量发展!
400-800-3875
li.qiu@spcctech.com
广东省东莞市寮步镇金兴路419号703室(鑫龙盛科产业孵化园A3栋7楼)
关注我们
关于谱标
产品导航
版权信息