二氧化硅 (SiO2) 纳米颗粒 (NP) 广泛应用于从油漆、涂料、粘合剂到食品添加剂、化妆品和抛光微电子设备的各种应用。随着应用的增加，人们日益关注纳米颗粒对环境、食品安全和人类健康的影响。显然，我们需要对各种样品中的低浓度纳米颗粒进行监测。

通过传统四极杆 ICP-MS 实现 NP 的准确测量面临着诸多挑战，特别是区分背景信号与小颗粒产生的信号的能力方面。因此，迄今为止报道的许多研究仍集中于银和金等相对易于通过 ICP-MS 测量的元素也不足为奇。这些元素有较高的灵敏度，通常不易受到干扰物的影响，一般也不存在于天然样品中，这使仪器能够更轻松地测量较小颗粒。然而在现实情况下，多数天然和人为加工的 NP 均基于难以通过 ICP-MS 进行测量的元素，如铁、硫、钛和硅型 NP。对这些元素而言，样品基质或等离子体背景有可能对其产生强烈的多原子干扰，在某些情况下灵敏度也会因较低的离子化程度或需要测量次要同位素而降低。二氧化硅 (SiO2) NP的广泛应用因此对其监测有明确的要求。然而，通过 ICP-MS 并不能轻松实现 Si 的测量，因为 Si 的主同位素（28Si，丰度为 92.23%）会受到背景多原子离子 CO 和 N2 的干扰。可采用 ICP-MS 碰撞/反应池中的化学反应解决干扰问题，为获得可控而一致的反应过程，需要使用 Agilent 8900串联四极杆ICP-MS (ICP-MS/MS) 等串联质谱仪器。

Agilent 8900 ICP-MS/MS 采用两个四极杆质量过滤器（Q1 和 Q2）以及一个位于二者之间的八极杆反应池来实现双重质量选择功能，这种功能通常称为MS/MS。MS/MS 提供的方法能够解决挑战性的谱图重叠问题，并可清楚了解池内的反应过程。ICP-MS/MS 可对硅等最难分析的元素实现成功测定。因此可采用配备单纳米颗粒应用模块软件的Agilent 8900 ICP-MS/MS在spICP-MS模式下对SiO2 NP进行测量。

以H2作为反应池气体，在 MS/MS模式下运行的Agilent 8900 ICP-MS/MS可成功用于 SiO2纳米颗粒的测定和表征。MS/MS 操作即使在碳基质含量较高时也可有效消除 m/z 28 处Si分析的多原子离子干扰，从而获得较低的背景信号和优异的灵敏度。ICP-MS MassHunter 软件专有的单纳米颗粒应用模块软件可通过计算粒径为单个NP标准物质和混合溶液提供准确结果。spICP-MS/MS 方法可为粒径小于100 nm 的 SiO2 颗粒提供较快的分析速度、粒径和浓度的优异检测限以及准确的结果。